サムコ　株式会社

３【事業の内容】当社は、半導体等電子部品製造装置メーカーで、薄膜形成・加工装置の製造及び販売を事業としております。当社の製品は、薄膜を形成するＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition＝化学的気相成長）装置、薄膜を微細加工するエッチング装置、基板表面などをクリーニングする洗浄装置、その他装置等に区分されます。（１）各々の装置分類毎の概要は次のとおりであります。装置区分概 要ＣＶＤ装置反応性の気体を基板上に供給し、化学反応によって薄膜を形成する装置で、一般に半導体、電子部品製造のための半導体膜、絶縁膜、金属膜などを形成するために使われます。当社が開発したＬＳ（Liquid Source）－ＣＶＤ装置では、引火爆発性のあるガスを使用せず安全性に優れた液体原料を用いて、低温で均一性に優れた薄膜を高速で形成することが可能であります。2015年12月から販売を開始した原子層堆積装置（ＡＬＤ＝Atomic Layer Deposition）はＣＶＤ装置に分類しております。ＡＬＤ装置は、反応室に有機金属原料と酸化剤を交互に供給し、表面反応のみを利用して成膜を行う装置であり、高い膜厚制御性と良好な段差被覆性を実現することが可能であります。エッチング装置各種半導体基板上の半導体薄膜、絶縁膜をはじめ微細加工が必要な材料をドライ加工する装置で、反応性の気体をプラズマ分解し、目的物と反応させて蝕刻いたします。当社独自のトルネードＩＣＰ（Inductively Coupled Plasma＝高密度プラズマ）を利用するエッチング装置では、高密度プラズマを安定して生成し、高速で高精度の微細加工が可能であります。洗浄装置実装基板や各種半導体基板などを溶液を用いずドライ洗浄する装置で、減圧下で反応性の気体をプラズマ放電させて処理する装置や紫外線と高濃度オゾンの併用で処理する装置などがあります。当社のドライ洗浄装置は、ウエット洗浄では難しい超精密洗浄を高効率で行うことが可能であります。2016年９月より販売を開始した水蒸気（Ｈ２Ｏ）を用いたプラズマ処理装置であるAqua Plasma（アクアプラズマ）洗浄装置は、金属酸化膜の還元、有機汚れの洗浄、樹脂接合、超親水化などの表面処理を、安全で環境に優しく行うことが可能であります。その他装置上記装置には含まれない特別な装置であります。部品・メンテナンス部品、保守メンテナンスなどであります。 （２）当社事業の用途別区分は次のとおりであります。用 途概 要化合物半導体分野窒化ガリウム（ＧａＮ）、ガリウムヒ素（ＧａＡｓ）、インジウムリン（ＩｎＰ）、炭化シリコン（ＳｉＣ）などの化合物を材料に用いた半導体デバイスの加工用途です。化合物半導体はＬＥＤや半導体レーザーといった光デバイス、電力の制御や増幅に使われるパワーデバイスや高速通信を実現するＨＥＭＴ(High Electron Mobility Transistor)などの高周波デバイスに用いられます。シリコン半導体分野シリコンウェハーの欠陥解析及びシリコン半導体に関する加工用途であります。電子部品分野半導体を除く電子部品の加工用途です。主にＭＥＭＳ(Micro Electro Mechanical Systems＝微小電気機械システム）、コンデンサ、インダクタ、各種センサー、高周波フィルターが含まれます。ヘルスケア関連分野マイクロ流体デバイスなどヘルスケアに関する加工用途などであります。その他大学等の共用設備向けの装置など上記以外の加工用途であります。部品・メンテナンス部品・メンテナンスに関する売上であります。 当社の装置の製造に関しては、自社の設計企画により協力会社に製造を委託し、製品出荷の前に独自のプログラムソフトを入力し、仕様検査・出荷検査を経て販売しております。販売に関しては営業所を通じて行うとともに、海外については一部現地販売代理店に委託しております。当社は、半導体等電子部品製造装置の製造及び販売事業の単一セグメントであり、以上述べた関係を図示すると次のとおりであります。（業態系統図） （注）台湾を中心とする保守サービス業務は現地法人「莎姆克股份有限公司」へ委託しております。

１【経営方針、経営環境及び対処すべき課題等】文中における将来に関する事項は、当事業年度末現在において当社が判断したものであります。 (1）会社の経営の基本方針当社は「企業の永続的な発展を追究し、適正な利益を確保することにより、企業を取巻く利害関係者と共に成長する企業を目指して、薄膜技術で世界の産業科学に貢献する。」ことを経営理念とし、①社員の創造性を重視し、常に独創的な薄膜技術を世界の市場に送る。②直販体制を採用し、ユーザーニーズに対応した製品をタイムリーに提供する。③事業が社会に果たす役割を積極的に認識し、高い付加価値を目標とし、株主、取引先、役員、従業員に対し、適切な成果の配分をする。を経営方針に掲げ、事業を展開しております。 (2）経営環境及び優先的に対処すべき課題等今後の経済環境につきましては、世界経済は米国の関税政策の影響や継続する地政学的なリスクへの懸念などにより緩やかな成長にとどまると見込まれます。一方、当社の製造装置利用目的の多くを占める半導体分野においては、ＡＩ関連投資への需要を中心に引き続き堅調に推移するものと見られております。このような中にあって、当社は、「薄膜技術で世界の産業科学に貢献する」という経営理念のもと、研究開発型企業として成長してきた高度な技術力に更に磨きをかけると同時に、蓄積した技術を生産機市場で活かすことで、事業規模の拡大を図っております。加えて、当社のコアテクノロジーである「薄膜技術」は医療、バイオ、環境といったライフサイエンス及びエネルギー分野に活かすことが可能であり、中期的には当社の新規事業、新分野として成長させることを目指し事業を展開してまいります。このような環境の下、新たな中期経営計画 第47期～第49期（2025年８月1日～2028年７月31日）を策定し、以下の重点課題に取り組み事業計画の達成に努めております。 ① 新しいプロセス及び新規装置の開発、販売お客さまが必要とされる様々な開発ニーズにお応えできるよう、当社で製造する装置の性能向上に努め、他社と差別化した独自の材料やプロセスを用いた開発に取り組んでまいります。日々新しく生み出される化合物半導体及び電子部品分野における多様な顧客要望に応える新規装置やプロセスの開発も行ってまいります。 ② 生産機販売の強化強みである研究開発向けの販売に引き続き注力することに加え、更なる企業成長を目指し、生産機（電子部品メーカーなどの生産現場での稼働を目的とする装置）向けの販売の強化にも力を入れます。生産向けのお客さまのニーズやご要望に精通した専任担当を任命し、製品の製造にあった適切な装置・プロセスの提案を通じてお客さまニーズの実現に協力いたします。また、生産機の販売増加に伴い増大する部品・メンテナンスの需要にお応えできるようアフターサービス体制の強化も行ってまいります。これにより、装置と部品・メンテナンスの相乗効果を創出し、持続的な売上拡大を目指してまいります。 ③ 海外販売の拡大新たな市場開拓のため、将来の成長期待の高い海外への事業展開を積極的に行っております。現地の営業・サービス人員を強化するとともに、本社からのサポート体制を充実させ、海外市場の開拓を図っていきます。引き続き、北米、台湾、中国、韓国のシェアを拡大しながら、欧州、インド等の新たなマーケットの開拓により、海外売上高比率50％以上を目指してまいります。 ④ 生産体制の拡充売上高の増加に対応し、生産体制の充実を行います。当社の製造に関しては、自社の企画設計により協力会社に製造を委託し、製品出荷前に調整、性能・品質検査を行い販売しております。自社建物に関しても、既存施設のレイアウトを見直し効率化することで生産能力の増強を計画しています。更に、工程の見直しによる生産の平準化などを通じて、設備の稼働効率の向上を図ります。⑤ 更なる成長に向けた人員育成・活躍の実現当社にとって最大の資産は人材であります。既存の人材を強化・育成し、新たに優秀な人材を獲得することが当社の企業価値を決定し、成長の大きな原動力となります。人事制度の見直しや評価システムの整備を行い、社員に魅力ある環境を整備しております。 ⑥ サステナビリティへの取り組み当社はサステナビリティ経営を推進するために、2022年８月に社長を委員長とする「ＥＳＧ委員会」を設立いたしました。同委員会では、装置のＣＯ２排出量抑制をはじめとする環境負荷低減に向けた各種施策を検討・実施しております。また、2006年６月に制定した「サムコ環境方針」※を遵守し、装置の設計にあたっては、省エネ効果の高い部材を使用することを進めるなど、製品の環境負荷低減にも継続して取り組んでまいります。 ※「サムコ環境方針」1) 環境方針の周知徹底環境方針を全社員に周知します。また、協力会社へも周知し、理解と協力を要請します。2) 環境教育を推進し、全社員の環境意識の向上を図ります。3) 環境関連法規の遵守法規制、条例およびその他の要求事項を遵守します。4) 環境重視の製品開発環境に調和するプロセス開発に取り組むとともに、それを活かした製品においては、製造から廃棄に至るまでを考慮した環境負荷軽減型の製品開発に努めます。5) グリーン調達調達する原材料、部品について、環境影響を考慮するよう調達先に働きかけます。6) 環境負荷の軽減エネルギーの効率的な利用および3R（リデュース・リユース・リサイクル）に積極的に取り組み、環境負荷の軽減に努めます。7) 全てのサムコ製品は省エネルギー、省スペースを基本に製造・販売を行い、環境負荷の軽減に努めます。 (3）目標とする経営指標当社は中期的にも収益力の高い企業であり続けようと考えており、装置製造原価率（装置製造原価／販売価格）及び売上高営業利益率を重要な経営指標として管理しております。また、海外販売の拡大に取り組んでおり、中期的には海外売上高比率を50.0％以上に引き上げる方針であります。なお、前中期経営計画 第44期～第46期（2022年８月１日～2025年７月31日）では、装置製造原価率50.0％未満、売上高営業利益率20.0％以上としておりましたが、新たな中期経営計画では、収益力の更なる強化を図り、装置製造原価率を45.0％未満に引き下げ、売上高営業利益率を25.0％以上に引き上げております。 株主、取引先、従業員等のステークホルダーにとって魅力ある企業を目指し、成長力と収益力の向上を図り、適切な利益配分により企業価値の向上を目指してまいります。

３【事業等のリスク】有価証券報告書に記載した事業の状況、経理の状況等に関する事項のうち、経営者が財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況に重要な影響を与える可能性があると認識している主要なリスクは、以下のとおりであります。当社ではこれらのリスク発生の可能性を十分に認識した上で、その発生を回避するための対応策を中期経営計画や年度計画の課題に組み入れ、また、リスクが顕在化した場合に備え、ガバナンス体制の強化、維持を進めております。一方、経営環境の変化の中で適切にリスクテイクしていくことにより今後の企業の持続的な成長に繋がるとの考えにより、それぞれのリスクについて悪影響を回避するとともに、リスクテイクの認識も強化し対応しております。なお、文中における将来に関する事項は、当事業年度末現在において当社が判断したものであります。 (1) 市場変動リスク当社は、半導体等電子部品製造装置の製造及び販売を行っております。当社の関わる化合物半導体及び電子部品製造装置の販売マーケットにおいて、５Ｇ（第５世代移動通信システム）の普及に伴いその「高速・大容量」「低遅延」「多接続」という特色を生かした新たな事業領域での開発投資が幅広い企業で進み、本格生産への移行が進んでおります。加えて、６Ｇ（Beyond５Ｇ～普及が進んでいる５Ｇの性能をさらに進化させた次世代の移動通信システム）を中心とした情報ネットワーク基盤の実現に向けた世界最高レベルの研究開発環境の整備が進められており、研究開発向けの半導体等電子部品製造装置の需要が拡大しております。加えて、ＡＩ関連投資の積極化によりデータセンターの建設需要が高まるなど、化合物半導体及び電子部品へのニーズは高く推移するものと見込まれております。その反面、ニーズや経済環境の変化によっては、需給バランスが大きく崩れることもあり、これに伴う顧客の設備投資の凍結や減産、計画変更等が発生した場合、当社の業績に悪影響を及ぼす可能性があります。また、急激な需要増加に対応できなかった場合には、顧客に製品をタイムリーに供給できず、機会損失が生じるなど、当社業績に影響を及ぼす可能性があります。当社では、原則販売代理店を通さない直販体制を構築しており、既存顧客については営業・技術担当者が直接顧客の設備投資動向を把握することを可能にしております。また、創業当初より繋がりの深い国内外の大学や研究機関から常に最先端技術や情報を得ることができ、最新の市場動向を把握した上で、製品開発や設備投資、生産、人員計画の適正化を図っております。(2) カントリーリスク当社は、北米、欧州、中国、台湾、韓国、東南アジア、インド等の世界各国で事業を行っており、今後も海外市場での拡販は当社の重要な経営課題となっております。しかしながら、海外事業展開においては、各国の法令、政治・社会情勢、文化宗教、商慣習の違いに起因する問題に対処できないことにより、想定通りの成果を上げることができない可能性があり、この場合には当社の業績に悪影響を及ぼす可能性があります。また、米国の関税政策の変化やウクライナ情勢、米中対立の長期化が当社の関わる化合物半導体及び電子部品製造装置のマーケットにも影響を与える事態になれば、当社の業績に悪影響を及ぼす可能性があります。一方、自国第一主義が進展した場合、各国の技術開発競争がより一層加速することが予想され、研究機関や民間企業が次世代の最先端技術の研究に対する取り組みを強化させることになれば、当社の関わる事業領域において新たなマーケットが創出される可能性があります。当社では、海外子会社・事業所社員は責任者含め原則現地採用としており、本社の日本人社員が出張やリモートにて現地を支援する体制としております。現地サイドの情報を適時、的確に把握することで、リスクの早期発見とリスク発現時の適切な対応に努めております。 (3) 資材等の調達に関するリスク当社の生産活動には、原材料、部品等が適時、適切に納入されることが必要ですが、原材料、部品等の一部については、その特殊性から仕入先や外注先が限定されているものや代替の困難なものがあります。世界的に半導体製造装置需要が拡大する一方で、仕入先や外注先の災害や事故、人手不足や後継者難による廃業・倒産等で、部品の安定的調達が確保できない可能性があります。その場合は、製品の出荷遅延による機会損失等が発生し、当社の業績に悪影響を及ぼす可能性があります。当社では、仕入先や外注先と長年にわたり良好な関係を維持し、複数社購買を実施するなど安定的な調達を図っております。加えて、重要部品の先行手配や仕様共通化等の対策により、安定供給体制の確立と在庫の適正化に取り組んでおります。 (4) 人材の確保に関するリスク当社の持続的成長を実現するため、高度なスキルを有する管理者、技術者、営業担当者、メンテナンス・サービス要員の確保と育成は極めて重要であり、社員の教育を体系的・継続的に実施する必要があります。しかしながら、必要な人材の確保が計画通りに進まなかった場合には、当社の将来の成長と業績に悪影響を及ぼす可能性があります。当社では、人材の育成・活用を中期経営計画の課題として取り組んでおり、多様な人材の確保と育成のため、海外の大学への直接求人の実施、シニア社員の活用・待遇の見直し、社内研修体系の制度化等を進めております。また、女性の技術職や管理職を増やし、女性が活躍できる雇用環境の整備を行うため、「採用した労働者に占める女性労働者の割合を30％以上とする」を目指として、行動計画を策定しております。 (5) 新製品開発リスク当社は、半導体製造装置業界におけるＣＶＤ装置、エッチング装置、洗浄装置において、顧客が求めるニーズに対応した研究開発を継続的に実施し、新製品をタイムリーに市場投入してまいりました。しかしながら、技術革新や製品開発のスピードが速い半導体製造装置業界において、将来のニーズを予測し、それに見合った新製品を開発し続けることは容易ではありません。他社製品に対して優位性ある新製品をタイムリーに適正な価格で市場に投入できない場合、市場の技術トレンドや製品仕様が当社の開発内容と異なる方向に向かった場合、あるいは当社の新製品の開発が著しく遅れた場合は、当社の業績に悪影響を及ぼす可能性があります。当社では、社内にて常に業界における最先端技術や情報を共有し、研究開発テーマや技術開発に関する事項を決定する機関として、代表取締役会長、代表取締役社長、技術開発統括部長、営業統括部長などを構成員とする技術戦略会議を毎月開催しております。また、同会議にて新製品の開発等に著しい遅延が生じないよう、その進捗を管理しております。 (6) 環境対応に関するリスク当社を取り巻くステークホルダーをはじめ、世界全体でサステナビリティに関する社会的要請が高まっております。こうした中、脱炭素社会への移行に伴う各国の気候変動政策、環境法令や業界行動規範、技術革新や顧客ニーズ等に適切に対応できなかった場合には、社会的信用の低下や製品競争力の低下等により、当社業績に悪影響を及ぼす可能性があります。当社では、中期経営計画の課題として社内環境対策（サムコ環境方針）への取り組み強化を掲げ、2022年８月に代表取締役社長を委員長とする「ＥＳＧ委員会」を設立いたしました。取締役会は同委員会の活動報告を受けて、当社の気候変動に関するリスク・機会及びこれらへの対策の状況を把握し、これによる財務への影響や中長期経営計画への影響、更なる環境負荷低減への取り組み等に対する検討を行っております。(7) その他のリスク当社が事業を遂行するにあたって、上記の主要なリスク以外にも、経営環境の変化により、場合によっては当社の業績に影響を及ぼすことが想定されるその他のリスクとして、以下のようなものがあります。なお、これらは、当社に関する全てのリスクを網羅したものではなく、記載された項目以外のリスクも存在します。 ① 特定地域、特定顧客への販売依存度生産用途向け製品の売上高比率の増加に伴い、海外の特定地域や国内外の特定顧客からの受注が集中することにより、期毎の売上高が大きく増減する可能性があります。特定地域、特定顧客の設備投資が低迷し装置需要が減少した場合には、当社の業績に悪影響を及ぼす可能性があります。 ② 製造物責任当社が提供する製品は、厳しい品質管理のもとに設計・製造されておりますが、万一顧客に深刻な損失をもたらした場合には損失に対する責任を問われる可能性があります。更に、これらの問題による当社の企業イメージの低下は、当社の業績に悪影響を及ぼす可能性があります。 ③ 知的財産権当社は、独自技術の専有化、他社製品との差別化及び競争力強化のために、様々な技術やノウハウを開発しており、その技術やノウハウが第三者の特許権その他の知的財産権を侵害しないよう厳重に管理しております。しかしながら、既に多くの特許権その他の知的財産権が存在し、日々新しい特許権その他の知的財産権が次々と取得される中で、見解の相違などにより第三者から特許権侵害等で提訴される可能性があります。また、当社の事業展開に必要な技術についてライセンスを取得できなかった場合には、当社の事業に悪影響を及ぼす可能性があります。 ④ 債権回収当社は顧客に関する信用リスクの管理強化策や軽減策を実施しておりますが、経済状況の急変により予想外の倒産や支払遅延が発生した場合には、当社の業績に悪影響を及ぼす可能性があります。 ⑤ 為替変動当社の海外取引のうちアジア向けは原則日本円建、欧米向けは原則米国ドル建でありますが、今後も海外取引を拡大する方針であり米国ドル建の取引が増加することになれば為替予約を活用したとしても為替変動リスクを被る可能性があります。また、当社は外貨建資産（未予約の現預金等）も保有しております。そのため、円建資産に転換する場合だけでなく財務諸表作成のための換算においても為替変動の影響を受ける可能性があります。 ⑥ 情報セキュリティ当社は、事業遂行に当たり、重要情報や取引先等の秘密情報を有しております。これらの情報については、サイバー攻撃等による不正アクセスや改ざん、データの破壊、紛失、漏洩等が発生する可能性があります。サーバーダウン等による事業の停止や、これらの情報が第三者に漏洩し不正使用された場合にも、当社の業績に悪影響を及ぼす可能性があります。 ⑦ 災害等による影響当社は災害等による影響を最小限に留めるため必要とされる安全対策や事業の早期復旧のための対策を実施しておりますが、大規模な台風や地震等の自然災害、疫病の流行、テロ、大規模な停電、火災、事故等の不測の事態が発生した場合、本社機能や製品生産に影響を与え、当社の業績に悪影響を及ぼす可能性があります。

４【経営者による財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況の分析】当事業年度における当社の財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況の概要は次のとおりであります。 (1）経営成績等の状況の概要① 経営成績の状況当事業年度における世界経済は、各国の通商政策等の影響や中国の景気減速懸念等を受けて不透明感が増す状況が続きましたが、欧米での経済活動は底堅く推移し、全体では緩やかな経済成長を示しました。半導体等電子部品業界におきましては、自動車向け市場では、電気自動車（ＥＶ）の成長鈍化に伴う需要低迷が見受けられましたが、ＡＩ関連投資が盛んとなり、データセンター向け半導体需要等の全般的成長が継続しました。その結果、国内売上高は5,755百万円（前期比30.6％増）、海外売上高は3,586百万円（前期比5.5％減）となり、海外売上高比率は38.4％となりました。また、当事業年度の受注高は9,104百万円（前期比11.8％増）となり、当事業年度末の受注残高は5,124百万円（前期比4.4％減）となりました。以上の結果、当事業年度における業績は、売上高が9,342百万円（前期比13.9％増）、営業利益は2,342百万円（前期比16.1％増）、経常利益は2,373百万円（前期比13.6％増）、当期純利益は1,697百万円（前期比15.3％増）となりました。主な品目別の売上高は、次のとおりであります。なお、当社は半導体等電子部品製造装置の製造及び販売事業の単一セグメントであるためセグメント毎の記載はしておりません。（ＣＶＤ装置）「化合物半導体分野」ではデータセンター向け半導体レーザー用途、「シリコン半導体分野」ではシリコンフォトニクス用途などでの販売があり、1,799百万円（前期比10.2％増）となりました。（エッチング装置）「化合物半導体分野」では半導体レーザーやマイクロＬＥＤ用途、「シリコン半導体分野」では欠陥解析用途、「電子部品分野」では量子デバイス用途などでの販売があり、5,503百万円（前期比17.8％増）となりました。（洗浄装置）「電子部品分野」や「ヘルスケア関連分野」の各種表面処理用途などでの販売があり、685百万円（前期比13.2％増）となりました。（部品・メンテナンス）既存装置のメンテナンスや部品販売などの回復傾向が見られ、1,354百万円（前期比4.7％増）となりました。 ② 財政状態の状況（流動資産）当事業年度末における流動資産の残高は、12,521百万円で前事業年度末に比べ1,333百万円増加いたしました。（固定資産）当事業年度末における固定資産の残高は、5,252百万円で前事業年度末に比べ324百万円増加いたしました。（流動負債）当事業年度末における流動負債の残高は、3,214百万円で前事業年度末に比べ381百万円増加いたしました。（固定負債）当事業年度末における固定負債の残高は、1,000百万円で前事業年度末に比べ18百万円増加いたしました。（純資産）当事業年度末における純資産の残高は、13,558百万円で前事業年度末に比べ1,258百万円増加いたしました。自己資本比率は76.3％と前事業年度末と同率になりました。③ キャッシュ・フローの状況当事業年度における現金及び現金同等物（以下「資金」という）は、前事業年度末に比べ384百万円増加し、5,022百万円（前事業年度末比8.3％増）となりました。当事業年度における各キャッシュ・フローの状況は以下のとおりであります。（営業活動によるキャッシュ・フロー）営業活動の結果得られた資金は1,206百万円（前期に得られた資金は1,642百万円）となりました。その主な内容は、売上債権及び契約資産の増加が946百万円、法人税等の支払額が641百万円に対して、税引前当期純利益が2,373百万円、仕入債務の増加が115百万円であったことによるものであります。（投資活動によるキャッシュ・フロー）投資活動の結果使用した資金は414百万円（前期に使用した資金は292百万円）となりました。その主な内容は、定期預金の払戻による収入が2,677百万円に対して、定期預金の預入による支出が2,689百万円、有形固定資産の取得による支出が406百万円であったことによるものであります。（財務活動によるキャッシュ・フロー）財務活動の結果使用した資金は404百万円（前期に使用した資金は103百万円）となりました。その主な内容は、配当金の支払額が361百万円、長期借入金の返済による支出が39百万円であったことによるものであります。 (2）生産、受注及び販売の実績当社は、半導体等電子部品製造装置の製造及び販売事業の単一セグメントであるため、生産、受注及び販売の実績については、当社の品目別に記載しております。 ① 生産実績当事業年度の生産実績を品目別に示すと、次のとおりであります。品目別当事業年度（自 2024年８月１日至 2025年７月31日）前年同期比（％）ＣＶＤ装置（千円）1,547,12988.9エッチング装置（千円）5,182,483112.0洗浄装置（千円）643,763182.4部品・メンテナンス（千円）1,491,553107.1合計（千円）8,864,930109.3（注） 金額は販売価格によっております。 ② 受注実績当事業年度の受注実績を品目別に示すと、次のとおりであります。品目別受注高（千円）前年同期比（％）受注残高（千円）前年同期比（％）ＣＶＤ装置1,284,57670.1834,04661.8エッチング装置5,718,560120.73,743,102106.1洗浄装置788,315205.3205,125199.9部品・メンテナンス1,313,144110.1342,02189.3合計9,104,596111.85,124,29595.6（注） 金額は販売価格によっております。③ 販売実績当事業年度の販売実績を品目別に示すと、次のとおりであります。品目別当事業年度（自 2024年８月１日至 2025年７月31日）前年同期比（％）ＣＶＤ装置（千円）1,799,245110.2エッチング装置（千円）5,503,032117.8洗浄装置（千円）685,782113.2部品・メンテナンス（千円）1,354,220104.7合計（千円）9,342,282113.9（注） 最近２事業年度の主な相手先別の販売実績及び当該販売実績の総販売実績に対する割合は、100分の10未満のため記載を省略しております。 (3）経営者の視点による経営成績等の状況に関する分析・検討内容文中の将来に関する事項は、当事業年度末現在において判断したものであります。① 財政状態の分析（流動資産）当事業年度末における流動資産の残高は、12,521百万円で前事業年度末に比べ1,333百万円増加いたしました。電子記録債権が213百万円減少した一方、売掛金が766百万円、契約資産が398百万円、現金及び預金が391百万円増加したのが主な要因であります。（固定資産）当事業年度末における固定資産の残高は、5,252百万円で前事業年度末に比べ324百万円増加いたしました。投資有価証券が108百万円減少した一方、建設仮勘定が362百万円、繰延税金資産が62百万円増加したのが主な要因であります。（流動負債）当事業年度末における流動負債の残高は、3,214百万円で前事業年度末に比べ381百万円増加いたしました。買掛金が115百万円、未払消費税等が97百万円、未払法人税等が68百万円増加したのが主な要因であります。（固定負債）当事業年度末における固定負債の残高は、1,000百万円で前事業年度末に比べ18百万円増加いたしました。長期借入金が39百万円減少した一方、退職給付引当金が44百万円、役員退職慰労引当金が11百万円増加したのが主な要因であります。（純資産）当事業年度末における純資産の残高は、13,558百万円で前事業年度末に比べ1,258百万円増加いたしました。その他有価証券評価差額金が76百万円減少した一方、繰越利益剰余金が1,335百万円増加したのが主な要因であります。自己資本比率は76.3％と前事業年度末と同率になりました。② 経営成績の分析当事業年度の売上高、売上総利益、販売費及び一般管理費、営業利益、経常利益、特別利益及び特別損失、当期純利益の詳細は以下のとおりであります。（売上高）売上高は前事業年度より13.9％増加し、9,342百万円となりました。国内売上高は前事業年度より30.6％増加し5,755百万円となり、海外売上高は前事業年度より5.5％減少し3,586百万円となりました。その結果、海外売上高比率は38.4％となりました。（売上総利益）売上総利益は前事業年度より11.3％増加し、4,668百万円となりました。売上総利益率は、前事業年度より1.1ポイントダウンし、50.0％となりました。（販売費及び一般管理費）販売費及び一般管理費は前事業年度より6.9％増加し、2,325百万円となりました。（営業利益、経常利益）営業利益は前事業年度より16.1％増加し、2,342百万円となりました。経常利益は前事業年度より13.6％増加し、2,373百万円となりました。（特別利益及び特別損失）特別利益はありませんでした。特別損失はありませんでした。（当期純利益）当期純利益は前事業年度より15.3％増加し、1,697百万円となりました。 当事業年度の経営成績は前事業年度に比べ増収増益となりました。なお、業績の詳細、主な品目別の売上高の詳細については、「(1）経営成績等の状況の概要 ①経営成績の状況」に記載のとおりであります。 ③ 経営方針、経営戦略、経営上の目標の達成状況を判断するための客観的な指標等経営方針、経営戦略、経営上の目標の達成状況を判断するための客観的な指標等については、「第２ 事業の状況 １ 経営方針、経営環境及び対処すべき課題等 (2）目標とする経営指標」に記載のとおり、装置製造原価率（装置製造原価／販売価格）、売上高営業利益率、海外売上高比率を中長期的な経営の重要指標としており、当事業年度における各指標等の実績及び中長期的な目標は次のとおりであります。今後についても、更なる原価低減、コスト低減に取り組みながら、海外販売の拡大を進めることで、引き続き中長期的な経営の重要指標の目標達成に努めてまいります。 第44期～第46期目標第46期実績第47期～第49期目標装置製造原価率50.0％未満46.1％45.0％未満売上高営業利益率20.0％以上25.1％25.0％以上海外売上高比率50.0％以上38.4％50.0％以上 ④ 経営成績に重要な影響を与える要因や、当該要因への対応について「第２ 事業の状況 ３ 事業等のリスク」に記載のとおりであります。 ⑤ 資本の財源及び資金の流動性についての分析当社の運転資金需要のうち主なものは、材料費、労務費、外注費、諸経費や、販売費及び一般管理費等の費用であります。当社は、マーケットの設備投資需要の増減により、月次や四半期単位の売上高の変動が大きくなる傾向があり、製品の製造に必要な資金需要が一時的に増加する可能性があります。その変動に対して機動的に対処できるよう、常に潤沢な手元資金を確保しております。投資を目的とした資金需要は、主に技術開発、生産拠点及び機械装置等の設備投資によるものであります。当社の運転資金及び設備投資資金は主として自己資金によって賄っており、必要に応じて借入れによる資金調達を実施しております。当社の資金状況は、当事業年度末における現金及び現金同等物の残高が前事業年度末に比べ384百万円増加し、5,022百万円（前事業年度末比8.3％増）となりました。キャッシュ・フローの状況については、「(1）経営成績等の状況の概要 ③キャッシュ・フローの状況」に記載のとおりであります。なお、直近５事業年度におけるキャッシュ・フロー指標の推移は、次のとおりであります。 第42期第43期第44期第45期第46期自己資本比率 (％)78.075.275.376.376.3時価ベースの自己資本比率 (％)204.0168.7288.8212.8129.4債務償還年数 (年)1.40.8－0.70.9インタレスト・カバレッジ・レシオ(倍)140.8303.5－360.9160.5(注) １．各指標は、下記の基準で算出しております。・自己資本比率：自己資本／総資産・時価ベースの自己資本比率：株式時価総額／総資産・債務償還年数：有利子負債／営業キャッシュ・フロー・インタレスト・カバレッジ・レシオ：営業キャッシュ・フロー／利払い２．第44期の債務償還年数及びインタレスト・カバレッジ・レシオは、営業キャッシュ・フローがマイナスであるため記載しておりません。 ⑥ 重要な会計上の見積り及び当該見積りに用いた仮定当社の財務諸表は、わが国において一般に公正妥当と認められている会計基準に基づき作成されております。当社は、財務諸表の作成には、経営者による会計方針の選択・適用、資産・負債及び収益・費用の報告金額及び開示に影響を与える見積りを必要としております。これらの見積りについては、過去の実績等を勘案し合理的に判断しておりますが、実際の結果は見積りによる不確実性のため、これらの見積りとは異なる場合があります。当社の財務諸表で採用する重要な見積りは、「第５ 経理の状況 １財務諸表等 (1)財務諸表 注記事項 （重要な会計方針）」に記載のとおりであります。

２【サステナビリティに関する考え方及び取組】当社のサステナビリティに関する考え方及び取組は、次のとおりであります。なお、文中の将来に関する事項は、当事業年度末現在において当社が判断したものであります。 (1）サステナビリティ全般当社は、会社の基本方針において、「企業の永続的な発展を追求し、適正な利益を確保することにより、企業を取巻く利害関係者と共に成長する企業を目指して、薄膜技術で世界の産業科学に貢献する。」を経営理念とし、１) 社員の創造性を重視し、常に独創的な薄膜技術を世界の市場に送る。２) 直販体制を採用し、ユーザーニーズに対応した製品をタイムリーに提供する。３) 事業が社会に果たす役割を積極的に認識し、高い付加価値を目標とし、株主、取引先、役員、従業員に対し、適切な成果の配分をする。を経営方針に掲げ、サステナブルな企業を目指し事業を展開しております。 ① ガバナンス当社の企業活動を環境や社会とともに持続的に成長させていくために企業・環境・社会にかかわる様々な課題を検討し、解決に資することを目的とする場として、代表取締役社長を委員長とする「ＥＳＧ委員会」を2022年８月に設置しております。ＥＳＧ委員会は総務部、社長室及び経営企画室からの部員、室員で構成されており、気候変動への対応をはじめ、サステナビリティ関連のリスク及び機会に対処するための検討を行っております。取締役会は同委員会の活動報告を受けて、これによる財務への影響や中長期経営計画への影響について検討を行い、必要に応じて更なる取り組み等に対する指示を行っております。 ② リスク管理当社は、持続的な企業価値向上のために、サステナビリティ項目を含めた全社横断的に対応が必要となるリスク及び機会への対応を、代表取締役社長を委員長とする「ＥＳＧ委員会」で、その方向性の策定や取組の進捗管理を行っております。詳細については、「第２ 事業の状況 ３ 事業等のリスク」に記載のとおりです。 (2）気候変動① ガバナンス当社は、2006年６月に「サムコ環境方針」を制定し、自社の活動・製品の環境への負荷軽減と環境保全活動に向けて積極的かつ継続的に取り組んでおります。また、中期経営計画第44期～第46期（2022年８月１日～2025年７月31日）において、経営課題として「社内環境対策（サムコ環境方針）への取り組み強化」を掲げ、ＥＳＧ委員会を設置いたしました。第44期以降、取締役会にて気候変動への対応につき定例的に活動内容を報告しております。第46期（2025年７月期）開催の取締役会では、ＥＳＧ委員会から以下の報告を行いました。１) 2024年11月20日・ＴＣＦＤ開示（気候関連財務情報開示）に準拠した第45期（2024年７月期）温室効果ガス排出量について２) 2025年４月17日・第46期上期温室効果ガス排出量・温室効果ガス排出量 Scope３（事業活動の上流における原材料の調達や製品の輸配送に伴う排出、下流における製品使用や廃棄による排出）の「輸送・配送（下流）」の試算や排出量削減案について ② 戦略気候変動シナリオ分析の結果、当社の事業は財務全体として大きなマイナスインパクトは現れないと予測いたしました。電気自動車等省電力ニーズの高まりによるパワー半導体需要の増加が当社の事業にとっては機会として伸びると分析しております。当社のコア技術である最先端の“薄膜技術”をベースに最先端の製造装置を世界中の製造現場や研究者へ提供し、省エネ、脱炭素社会の実現に貢献していきます。また、当社製品・技術を顧客に選んでいただけるよう、製造装置自身の省エネ化を進めてまいります。 現状の主な取り組みテーマは以下の通りです。・製品容積の減少半導体製造装置の製造現場では、多大な電力を要するクリーンルームでの効率的な装置配置が不可欠です。そのためには、装置設置面積の削減が重要なポイントとなります。更に小さなサイズの装置とすることで納品時における移送コストの削減を行うことができます。・消費エネルギーの削減より少ない電力消費で当社装置を稼働できるよう省電力が可能となる部品の選択や構成の見直しなどを恒常的に行ってまいります。・会社が排出する温室効果ガスの排出量削減当社の業務活動における電力消費及び研究開発に使用する温室効果ガス（フッ素系ガス）の排出量削減を目指した取り組みを行ってまいります。・グリーン調達当社では、環境に配慮した原材料・部品を優先的に調達するグリーン調達を、調達先企業と協力して推進しております。・廃棄物の削減事業活動に伴い排出される廃棄物の量の削減・リサイクル製品の利用促進に継続的に取り組んでおります。 ③ リスク管理「ＥＳＧ委員会」において、省エネに関する社内各部署の取り組みや、各建屋別の電力データを毎期測定し、電力使用量・ＣＯ２排出量の推移をモニタリングし、削減策の検討・社内各部署への指示などを実施しております。今後、当該リスク及び機会にかかる影響を把握・分析するとともに、統合的リスク管理の枠組みにおける管理体制の構築を検討してまいります。 ④ 指標及び目標（会社が排出する温室効果ガスの排出量削減）当社第46期（2025年７月期）の温室効果ガスの排出量(*)は912トン（前期比84トン増）・売上高（億円当たり）の排出量は、9.8トン（前年比0.3トン減）でした。前年比増加の要因は、電力使用による排出量は前期と同水準で推移した一方、温暖化係数の高い特殊ガスの購入が当上半期に集中したことによります。なお、目標数値については、前年度実績の100％以下としております。また、温室効果ガスの排出量削減以外の取組に対する目標設定や進捗状況の開示につきましては、今後の課題として検討中であります。(*)当社京都地域における生産・研究開発・営業活動に係る電力消費のＣＯ２排出換算量及び研究開発に使用するフッ素系ガスの合算量 (3）人的資本① 戦略当社にとって最大の資産は人材であります。当社の人材が更に成長していくこと、新たな人材に加わってもらうことが当社の企業価値を決定し、成長の大きな原動力となります。当社は社員の育成に当たり、その行動指針として“勇気・創造・勤勉”を掲げ、創業者である辻理会長の人材育成、登用についての考え方を集約した「人材育成方針」と、それを達成するための「社内環境整備方針」のもと体制・社内環境を整備し、その実践により経営理念の実現を図っております。＜人材育成方針＞１) 仕事は楽しく、面白くあるべきである。一所懸命に楽しく仕事をして、かつ面白い。そして良い結果がついてくる。そんな楽しく、面白い日々が日常である会社とする。２) “学ぶ”を忘れない。学ぶことを常に念頭に置き、長きにわたり己を磨くことで自らの価値を高めてほしい。特に若手社員は30代までに能力向上に勤しむ癖をつけなければならない。３) リスキリングにより第一線で活躍できるスキルを身に付けることにより、70歳まで働ける企業としていく。シニア社員が十分社会貢献できるよう再教育することを会社の使命と考える。４) 外国籍社員の採用を増やし、若手社員の海外経験を増やすことによりグローバル人材の育成を図る。５) 階層別の教育訓練制度（部長塾、課長塾、成長塾）を発展的に継続し、多角的な視野で経営管理できる人材の育成を図る。６) たえず組織の新陳代謝を図り、新たな細胞（多様な人材）を積極的に登用していく。人事異動は社員の層を厚くし、組織を重層化する目的もあり、新たな能力の開拓につなげる。女性社員も大きな戦力として、技術職や管理職で活躍をしてもらえるように環境を整備する。＜社内環境整備方針＞１) 法令を遵守し、職場環境の整備や公平な評価・処遇をはじめとする十分な対応を行う。２) 従業員が自己実現の場と感じることができるよう、安全で働きやすい職場環境の整備に努める。３) 育児や介護等に係る休暇制度とともに復職後も状況に応じた勤務形態を利用することができるように整備する。② 指標及び目標当社は、女性の技術職や管理職を増やし、女性が活躍できる雇用環境の整備を行うため、女性活躍推進法に基づく行動計画及び数値目標として、次の行動計画を策定しております。○計画策定理由日本では女性の理工系人材が少なく、技術職の多い当社の従業員全体に占める割合は14.1％（191名中27名）と小さいのが現状です。近年、政府の後押しもあり、理工系等を専攻する女子学生の増加を目標として掲げている大学や高等専門学校が増加しており、今後理系女子学生の数は着実に増加していくものと考えます。当社としては、理系女子学生の採用活動を強化すること等によりその活躍の場を提供し、当社の企業価値を高めるとともに、女性が活躍できる社会づくりに貢献していきたいと考えます。○計画期間2022年８月１日 ～ 2027年７月31日○目標採用した労働者に占める女性労働者の割合を30％以上とする。○取組内容１) HP等の媒体にて、女性技術職社員の活躍をＰＲする。２) 新卒採用における理系女子応募者の裾の拡大のため、大学の理系学部、及び高等専門学校の女子学生への多面的なアプローチを実施する。３) インターンシップ実施について、受入人数の半数以上を女性にする。４) 女性社員にヒアリングを実施し、職場環境の課題を調査し、女性が活躍できる職場環境の改善を行う。 なお、第46期（2025年７月期）に採用した労働者に占める女性労働者の割合は26.7％でした。また、目標達成に向けて以下の取組を行いました。１) 会社説明会で今後女性を積極的に採用していく方針であることをＰＲ。２) 事務系、技術系で実務に近い内容のインターンシップを実施。女性の受入比率38.3％（47名中18名）。３) 全社員宛にハラスメント注意喚起実施。４) 管理職対象の外部講師（弁護士）によるハラスメント研修実施。５) 女性専用のハラスメント相談窓口設置。 また、上記以外の取組に対する目標設定や進捗状況の開示につきましては、今後の課題として検討中であります。

（１）【コーポレート・ガバナンスの概要】① コーポレート・ガバナンスに関する基本的な考え方当社は、「企業の永続的な発展を追究し、適正な利益を確保することにより、企業を取巻く利害関係者と共に成長する企業を目指して、薄膜技術で世界の産業科学に貢献する。」という経営理念のもと、半導体と材料開発の分野でグローバルな最先端企業を目指して積極的に事業を展開しております。この中において、当社は、継続的な企業価値向上のためコーポレート・ガバナンスの確立が極めて重要な経営課題であると認識しており、そのために常に組織の見直しと諸制度の整備が不可欠であると認識しております。この考えに立脚して、次の３点の施策に取り組んでおります。(1) 業務執行責任者に対する監督・牽制の強化(2) 情報開示による透明性の確保(3) 執務執行の管理体制の整備（内部統制システム構築） ② 企業統治の体制の概要及び企業統治の体制を採用する理由イ. 企業統治の体制の概要当社では、効率的で健全な企業経営システムを構築し、常に組織の見直しと諸制度の整備に取り組んでおります。取締役会・当社では、意思決定の迅速化と経営責任を明確化するため、月１回の開催を定例化し、法令で定められた事項及びその他経営に関する重要事項の決定を行うとともに、監査役の参加のもと、業務の執行状況の管理監督がなされております。・当社の取締役会は、独立社外取締役４名（うち、女性１名）を含む９名で構成され、社外取締役比率は44.4％となっており、常に次世代を担う若手役員候補者を育成しながら、開かれた運営を基本としております。取締役会は、代表取締役会長 辻理を議長とし、代表取締役社長 川邊史、取締役 山下晴彦、取締役 宮本省三、取締役 佐藤清志、社外取締役 村上正紀、社外取締役 高須秀視、社外取締役 藤田静雄、社外取締役 桺本依子の９名で構成されております。 内部統制委員会・コンプライアンス全体を統括する組織として代表取締役社長を委員長とする「内部統制委員会」を設置し、内部統制システムの構築、維持、向上を推進しております。 監査役会・当社は監査役制度を採用しており、監査役会は、常勤監査役 辻村茂を議長とし、社外監査役 西尾方宏、社外監査役 木村学の３名で構成されております。監査役は、取締役会に出席し、必要に応じて意見を述べるほか、取締役の職務執行の適法性と妥当性をチェックし、公正な意見が発言できる仕組みを作り上げております。 ＥＳＧ委員会・当社の持続的成長のため、企業・環境・社会にかかわる様々な課題の解決に資することを目的に、代表取締役社長を委員長として、総務部、社長室及び経営企画室からの部員及び室員で構成される「ＥＳＧ委員会」を設置しております。 内部監査・社長室の専任者１名が年間計画に基づく内部監査を実施して、リスクの低減や不正防止を図っております。内部監査の実効性を確保するため、監査責任者は監査計画書に基づいて実施された監査の結果について定期的に取締役会に報告しており、定期的な報告は少なくとも年に１回は行われております。業務活動の全般に関し、その妥当性や有効性及び法規制・社内ルールの遵守状況等について定期的に監査を実施し、各部署に助言・勧告を行うとともに経営者に速やかに報告しております。 執行役員・当社は執行役員制度を導入しており、取締役の意思決定機能と執行役員の業務執行機能を明確にすることによって、コーポレート・ガバナンスの強化を図っております。執行役員は、2025年10月20日（有価証券報告書提出日）現在、山下晴彦、外山信一、宮本省三、佐藤清志、松出和男、江﨑裕二、ヘンリー・チャン、上杉能章、奥野英治の９名で構成されており、2025年10月21日以降は、山下晴彦、宮本省三、佐藤清志、松出和男、江﨑裕二、ヘンリー・チャン、上杉能章、山本潤、八田博文、山本仁志の10名で構成される予定であります。 会計監査人・会計監査人には有限責任 あずさ監査法人を選任しております。取締役、監査役は、監査講評時（年４回）には、業況及び内部統制等の意見・情報交換を行っており、会計上・監査上の諸問題に対する助言を得ております。 ロ. 企業統治の体制を採用する理由当社では、企業競争力強化を図り、スピーディーな経営の意思決定及び経営の透明性・合理性向上を目的としております。また、コンプライアンスは、コーポレート・ガバナンスの基本と認識しており、単に法令や社内ルールの遵守にとどまらず、社会倫理や道徳を尊重する企業風土作りに努めております。従って、公正かつ健全な企業活動を促進し、コーポレート・ガバナンスの体制拡充を図るため、現状の体制を採用しております。 ＜業務執行と内部統制の仕組み＞ ③ 企業統治に関するその他の事項イ. 内部統制システムとリスク管理体制の整備の状況内部統制については、社長室の専任者１名が年間計画に基づく内部監査を実施して、内部牽制の実効性を高めております。社長室は、業務活動の全般に関し、その妥当性や有効性及び法規制・社内ルールの遵守状況等について定期的に監査を実施し、各部署に助言・勧告を行うとともに経営者、取締役会及び監査役会に対し適切に報告しております。リスク管理については、管理統括部内の総務部が窓口となって各部門から適宜報告を受けるとともに、コンプライアンスの監視、リスク・チェックの強化に取り組んでおります。顧問弁護士からはコーポレート・ガバナンス体制、法律面等についての公正かつ適切な助言、指導を受けております。今後も、経営内容の透明性を高め各ステークホルダーから信頼される企業を目指して、コーポレート・ガバナンスの一層の充実を図ってまいります。なお、当社は、取締役、執行役員及び使用人の職務の執行が法令及び定款に適合することを確保するための体制その他会社の業務の適正を確保する体制について、以下の体制を構築しております。ａ. 当社における取締役、執行役員及び使用人の職務の執行が法令及び定款に適合することを確保するための体制・取締役、執行役員及び使用人が法令、定款及び社内規定を遵守し、誠実に実行し、業務遂行するために、取締役会は取締役、執行役員及び使用人を対象とする「企業倫理行動指針」「倫理規程」及び「コンプライアンス基本規程」を制定する。・コンプライアンス全体を統括する組織として代表取締役社長を委員長とする「内部統制委員会」を設置し、内部統制システムの構築、維持、向上を推進する。・コンプライアンスの推進については、コンプライアンス基本規程に基づき社長室にその業務の窓口を設置し、コンプライアンスの状況等について監査を実施し、定期的に取締役会及び監査役会にその結果を報告する。・取締役、執行役員及び使用人が法令違反その他法令上疑義のある行為等を発見した場合には、適切に対応するため、社内における通報制度を構築し、運用する。・社会の秩序や企業の健全な活動に脅威を与える反社会的勢力に対しては、取引関係も含め一切の関係を持たないこととする。その不当要求に対しては、法令及び社内規定に則り毅然とした姿勢で組織的に対応する。ｂ. 当社の取締役の職務の執行に係る情報の保存及び管理に関する体制・取締役の職務の執行及び意思決定に係る記録や文書は、保存及び廃棄等の管理方法を法令及び文書管理規程に基づき、適切に管理し、関連規程は必要に応じて適宜見直しを図る。・取締役、監査役及び会計監査人は、これらの情報及び文書を常時閲覧できる。ｃ. 当社の損失の危険の管理に関する規定その他の体制・リスク管理規程を定め、同規程に従ったリスク管理体制を構築する。・不測の事態が発生した場合には、代表取締役社長を本部長とする対策本部を総務部内に設置し、顧問弁護士等を含む外部アドバイザーの協力のもと、迅速な対応を行い、損害の拡大を防止し、これを最小限に止める体制を整える。ｄ. 当社の取締役の職務の執行が効率的に行われることを確保するための体制・定例の取締役会を毎月１回開催し、経営方針及び経営戦略に係る重要事項の決定並びに取締役の業務執行状況の監督等を行う。・取締役会の機能をより強化し、経営効率を向上させるため、必要に応じて適宜臨時の取締役会を開催し、業務執行に関する基本事項及び重要事項に係る意思決定を機動的に行う。・取締役会において、中期経営計画及び各事業年度予算を立案し事業目標を設定するとともに、その進捗状況を監督する。・取締役会の決定に基づく業務執行については、「業務分掌規程」「職務権限規程」「稟議規程」「会議規程」において、職務の執行の責任及びその執行手続きが規定されており、効率的な職務執行を確保する。また各規程は必要に応じて適宜見直しを図る。ｅ. 当社並びにその子会社から成る企業集団における業務の適正を確保するための体制・「関係会社管理規程」に基づいて当社の子会社等の関係会社を管理する体制を構築するとともに、それらの経営成績及び営業活動等を定期的に当社の取締役会に報告する体制を整備する。この体制を整備することによって、当社の子会社を含む関係会社の損失の危険を管理する。・当社の子会社には、当社の役職者が役員として就任し、当社の子会社の取締役等の職務の執行が効率的に行われることを監視し、これを確保する体制を整備する。・当社の社長室は、関係会社に対し定期的な内部監査を行い、監査の結果は当社の代表取締役社長、監査役及び関係部署に報告することで、関係会社の取締役等及び使用人の職務の執行が法令及び定款に適合することを確保する体制を整備する。ｆ. 監査役の職務を補助すべき使用人を置くことに関する体制と当該使用人の取締役からの独立性に関する事項・現在、監査役の職務を補助すべき使用人はいないが、必要に応じて監査役の職務補助のための監査役スタッフを置くこととし、その人事については、取締役と監査役が協議を行うものとする。・当該使用人の任命、異動については、監査役会の事前の同意を得ることで取締役からの独立性を確保し、各監査役の当該使用人に対する指示の実効性を確保する。ｇ. 取締役、執行役員及び使用人が監査役に報告するための体制、その他の監査役への報告に関する体制・取締役、執行役員及び使用人は、会社に著しい損害を及ぼすおそれのある事実があることを発見した等、監査役に報告すべき事由があると認める場合には、ただちに当該事由を監査役に報告する。・常勤監査役は、取締役会の他重要な意思決定の過程及び業務の執行状況を把握するため、内部統制委員会、経営会議等の重要な会議に出席するとともに、主要な稟議書その他業務執行に関する重要な文書を閲覧し、必要に応じて取締役、執行役員又は使用人にその説明を求めることができるものとする。・当社の子会社の取締役ないし使用人及びこれらの者から報告を受けた者は、当社の監査役に対して、当社の監査役に報告すべき事由があると認める場合には、ただちに当該事由を監査役に報告する。ｈ. ｇ記載の体制を利用して報告をした者が、当該報告をしたことを理由として不利な取扱いを受けないことを確保するための体制・当社は、社内通報規程に基づいて通報をした者に対して、当該通報をしたことによって、いかなる不利益をも課してはならない（社内通報規程第10条）。・当社は、ｇ記載の体制を利用してなされた報告が、当社の社内通報規程に則ってなされたものでなくとも、同規程第10条の趣旨に鑑みて、当該報告をしたことを理由として、報告者に対して不利な取扱いをしない。ｉ. 当社の監査役の職務の執行について生ずる費用の前払又は償還の手続その他の当該職務の執行について生ずる費用又は債務の処理に係る方針に関する事項・取締役会は、監査役がその職務の執行について、当社に対して費用の前払い等会社法第388条の規定に基づく請求をした場合には、当該規定やその趣旨に則って適切に処理をする。・取締役会は、事業年度ごとに、上記の請求がなされた場合に備えて、予算を確保する等の適切な措置を講じる。ｊ. その他当社の監査役の監査が実効的に行われることを確保するための体制・監査役が代表取締役社長と定期的に会合を持ち、意見や情報交換を行える体制を構築する。・監査役の職務執行にあたり、監査役が必要と認めたときには、当社の会計監査人から会計監査の内容について説明を受けるとともに、情報交換を行うなど連携を図っていくものとする。ｋ. 財務報告の信頼性と適正性を確保するための体制・金融商品取引法等が定める財務報告の信頼性を確保するために、財務報告に係る内部統制の体制の整備、運用、評価を継続的に行い、不備に対する必要な是正措置を講ずる。 ④ 責任限定契約の内容の概要当社と各社外取締役及び各社外監査役は、会社法第427条第１項に基づき、会社法第423条第１項の損害賠償責任を限定する契約を締結しております。当該契約に基づく損害賠償責任の限度額は、法令が定める最低責任限度額としております。なお、当該責任限定が認められるのは、当該社外取締役又は社外監査役が責任の原因となった職務の遂行について善意でかつ重大な過失がないときに限られます。 ⑤ 取締役の定数当社の取締役は９名以内とする旨を定款に定めております。 ⑥ 取締役の選任の決議要件当社の取締役の選任決議は、議決権を行使することができる株主の議決権の３分の１以上を有する株主が出席し、その議決権の過半数をもって行う旨定款に定めております。また、取締役の選任については、累積投票によらないものとする旨を定款に定めております。 ⑦ 取締役会で決議することができる株主総会決議事項イ. 中間配当当社は、株主への機動的な利益還元を行うため、会社法第454条第５項の規定により、取締役会の決議によって中間配当を行うことができる旨を定款で定めております。中間配当については、年間を通じての出荷平準化の取り組みにより中間会計期間での利益確保を前提に早期の実施を目指しております。 ロ. 自己の株式の取得の決定機関当社は、機動的に自己株式の取得を行うことを目的として、会社法第165条第２項の規定に基づき、取締役会の決議をもって市場取引等により自己の株式を取得することができる旨を定款で定めております。 ⑧ 株主総会の特別決議要件当社は、会社法第309条第２項に定める株主総会の特別決議要件について、議決権を行使することができる株主の議決権の３分の１以上を有する株主が出席し、その議決権の３分の２以上をもって

（４）【役員の報酬等】① 役員の報酬等の額又はその算定方法の決定に関する方針に係る事項当社は役員の報酬等の額又はその算定方法の決定に関する方針を定めております。当社の役員報酬は、基本報酬である「固定報酬」、毎期の業績達成度合いによって変動する「業績連動報酬」、そして「退職慰労金」で構成しております。株主総会にて決定する報酬総額の限度内で、経営内容、経済情勢、社員給与とのバランス等を考慮して、取締役の報酬は取締役会の決議により決定し、監査役の報酬は監査役の協議により決定しております。当事業年度の固定報酬については、2024年10月22日開催の取締役会で協議の上、各取締役に対する具体的報酬額は、その決定を代表取締役会長である辻理、代表取締役社長である川邊史に委任しております。その理由は、当社全体の業績を俯瞰しつつ各取締役の評価を行うには最も適していると判断したからであります。また、業績連動報酬については、「利益連動取締役給与に関する会計基準取扱内規」に基づき、税引前当期純利益（取締役業績連動報酬を損金経理する前の数値）を指標（※）として算定式を定めており、当事業年度の実績については、総額40,000千円の支給を決定しております。退職慰労金については「役員退職慰労金内規」に定める基準に基づき、支給額等を決定しております。また、業績連動報酬に係る主な指標となる税引前当期純利益の第46期目標及び実績は、目標2,240,000千円に対して実績は2,373,332千円であります。監査役の固定報酬については、株主総会で決議した監査役の報酬額の総額の範囲内で、監査役会にて協議し決定しております。なお、2023年10月24日開催の第44期定時株主総会での決議により、取締役の報酬額は年額300,000千円（うち社外取締役分30,000千円）以内（ただし、使用人分給与は含まない。）、監査役の報酬額は年額30,000千円以内となっております。なお、現在の取締役は９名（うち社外取締役４名）であります。 ※2023年８月23日開催の取締役会において、「利益連動取締役給与に関する会計基準取扱内規」を一部改定し、税引前当期純利益（取締役業績連動報酬を損金経理する前の数値）が４億円以上の場合、支給いたします。また、指標額が11億円を超える場合は、30,000千円に超過分の１％を加算いたします。但し、業績連動報酬の総額は40,000千円を上限といたします。当該指標を選択した理由は、業績結果を端的に示すものであると判断しているためであります。なお、非経常的な要因により発生した損益については支給総額の算定に際して、これを加減する場合もあります。 ② 役員区分ごとの報酬等の総額、報酬等の種類別の総額及び対象となる役員の員数役員区分報酬等の総額（千円）報酬等の種類別の総額（千円）対象となる役員の員数（人）固定報酬業績連動報酬退職慰労金左記のうち、非金銭報酬等取締役（社外取締役を除く。）177,103124,58040,00012,523－5監査役（社外監査役を除く。）8,2207,800－420－1社外役員19,83019,830－－－7 ③ 役員ごとの報酬等の総額等報酬等の総額が１億円以上である者が存在しないため、記載しておりません。

５【従業員の状況】(1）提出会社の状況 （2025年７月31日現在）従業員数（人）平均年齢（歳）平均勤続年数（年）平均年間給与（円）191(5)41.113.16,675,421（注）１．従業員数は就業人員（当社から社外への出向者を除き、社外から当社への出向者を含むほか、嘱託を含んでおります。）であり、臨時雇用者数（パートタイマー、人材会社からの派遣社員、季節工を含む。）は、年間の平均人員を（ ）外数で記載しております。２．平均年間給与は、賞与及び基準外賃金を含んでおります。３．当社は常時雇用する労働者が101人以上300人以下であるため、管理職に占める女性労働者の割合、男性の育児休業取得率、男女間賃金格差について、「女性の職業生活における活躍の推進に関する法律（平成27年法律第64号）（女性活躍推進法）」及び「育児休業、介護休業等育児又は家族介護を行う労働者の福祉に関する法律（平成３年法律第76号）（育児・介護休業法）」の規定による公表をしておらず、それらの数値について本報告書において記載しておりません。４．当社は半導体等電子部品製造装置の製造及び販売事業の単一セグメントであるためセグメント毎の記載はしておりません。(2）労働組合の状況労働組合は結成されておりませんが、労使関係は円満に推移しております。

４【関係会社の状況】該当事項はありません。

３【配当政策】当社は株主の皆様への利益還元を経営の重点政策として位置付けております。経営体質の強化と研究開発のための設備投資等のために必要な内部留保を確保しつつ、安定した配当を継続する基本方針のもと、余剰資金については業績連動的な配当の考え方を合わせて取り入れております。また、当社は期末配当として年１回の剰余金の配当を行うことを基本方針としており、期末配当については株主総会にて決定しております。なお、当社は、「取締役会の決議により、毎年１月31日を基準日として、中間配当を行うことができる。」旨を定款に定めております。中間配当については、年間を通じての出荷平準化の取組により中間会計期間での利益確保を前提に早期の実施を目指しております。当事業年度の配当については、上記方針に基づき１株につき普通配当60円00銭とすることを2025年10月21日開催予定の定時株主総会において決議する予定としております。内部留保資金については、今後予想される経営環境の変化に対応すべく、市場ニーズに応える技術・製品開発体制を強化し、更には、グローバル戦略の展開を図るために有効投資してまいりたいと考えております。なお、当事業年度に係る剰余金の配当は以下のとおりであります。決議年月日配当金の総額（千円）１株当たり配当額（円）2025年10月21日481,94460.00定時株主総会決議（予定）

６【研究開発活動】当社は、「薄膜技術で世界の産業科学に貢献する」ことを経営理念としており、「社員の創造性を重視し、常に独創的な薄膜技術を世界の市場に送る」、「直販体制を採用し、ユーザーニーズに対応した製品をタイムリーに提供する」、「事業が社会に果たす役割を積極的に認識し、高い付加価値を目標とし、株主、取引先、役員、従業員に対し、適切な成果の配分をする」ことを経営の基本方針としております。この目標達成のため、技術革新の著しい半導体等電子部品業界の基礎研究から応用研究まで、幅広い研究開発に取り組んでおります。2025年9月に竣工しました先端技術開発棟では、研究開発センターで行ってまいりました装置開発の活性化を目的とした複数のテーマ別のプロジェクトを運営し、既存装置の改良、改善、新製品の開発、営業支援のためのデモ実験等を行い、研究開発体制の更なる強化を図ります。2020年７月に第二生産技術棟内に開設した成膜装置のデモルームの活用により、ＡＬＤ装置を中心とする薄膜形成装置の開発とナノレベルの酸化膜や窒化膜を中心とした成膜プロセス技術の開発、薄膜特性の基礎研究や物性評価などに注力しております。また、米国オプトフィルムス研究所では、新たな半導体材料に係る基礎研究を行っております。一方、社外との共同研究も積極的に実施しており、有望なテーマがあれば、大学等の研究機関と共同研究を行っております。上記活動に伴い、当事業年度の研究開発費は302百万円となっております。なお、当社は半導体等電子部品製造装置の製造及び販売事業の単一セグメントであるため、セグメント毎の記載はしておりません。

２【主要な設備の状況】2025年７月31日現在における主要な設備、投下資本並びに従業員の配置状況は、次のとおりであります。事業所名(所在地)設備の内容帳簿価額（千円）従業員数(人)建物及び構築物機械及び装置土地その他合計面積㎡金額本社工場（生産技術研究棟、製品サービスセンター、本社拡充用地、田中宮用地、第二生産技術棟を含む）(京都市伏見区)製造業務、販売業務及び統括業務251,36418,747[3,748.99]10,076.02,670,28433,3472,973,743130(3)研究開発センター（第二研究開発棟、田中宮用地２を含む）(京都市伏見区)研究開発業務39,41619,8812,657.0783,06011,581853,94022（注）１．帳簿価額のうち「その他」は、車両運搬具、工具、器具及び備品及びリース資産であり、建設仮勘定は含んでおりません。２．上記中の[ ]書きは賃借中のものであります。３．従業員数は、就業人員であり、臨時雇用者数は、（ ）外数で記載しております。４．本社工場には、管理業務及び販売業務にかかる設備を含んでおります。

（３）【監査の状況】① 監査役監査の状況監査役会は、監査役３名（うち社外監査役２名）で構成され、ガバナンスのあり方とその運営状況を監視し、取締役の職務執行を含む日常的活動の監査を行っております。監査役は、取締役会その他重要な会議へ出席の上、取締役の業務執行状況の把握に随時努めており、取締役の職務の執行を監査しております。監査役会は、原則として毎月１回、その他必要に応じ随時開催され、監査に関する必要事項の報告を受け、協議・決議を行っており、社長室及び会計監査人より、監査計画・監査結果について随時報告を受け、相互連携を図っております。監査役会における主な検討事項は、監査方針や監査計画の策定、会計監査人の評価及び再任可否、定時株主総会への付議内容の監査、常勤監査役選定、会計監査人の報酬、決算の監査等であります。監査役は、株主総会や取締役会への出席や、取締役・執行役員・従業員・会計監査人からの報告収受など法律上の権利行使のほか、常勤監査役は、重要な会議体への出席や事業所への往査、現場視察等を通じて、実効性のあるモニタリングに取り組んでおります。社外監査役は、会計監査人、社長室、常勤監査役とも定期的及び必要に応じて連携をとっており、財務諸表等の意見交換の機会を持ち、監査効率の向上に努めております。また、社外監査役は、高い独立性及び専門的な見地から、客観的かつ適切な監視、監督を行うことにより、当社の企業統治の有効性を高める機能及び役割を担っていると考えております。なお、社外監査役であります西尾方宏氏は、公認会計士としての長年の経験があり、財務及び会計に関する相当程度の知見を有しております。当事業年度において当社は監査役会を12回開催しており、個々の監査役の出席状況については次のとおりであります。役職名氏 名出席状況（出席率）常勤監査役辻村 茂12回／12回（100％）社外監査役木村 隆之２回／２回（100％）社外監査役西尾 方宏12回／12回（100％）社外監査役木村 学10回／10回（100％）（注）１．木村隆之は、2024年10月22日開催の第45期定時株主総会終結の時をもって任期満了により社外監査役を退任し、出席の対象となる監査役会２回の全てに出席いたしました。（注）２．木村学は、2024年10月22日開催の第45期定時株主総会で社外監査役に選任され就任し、出席の対象となる監査役会10回の全てに出席いたしました。 また、当事業年度における当社監査役会の主な決議事項及び報告事項は、以下のとおりであります。・監査運営方針、監査基本計画書の決定・監査役会議長及び常勤監査役の互選・監査役の報酬金額決定・退任監査役への退職慰労金贈呈の承認・会計監査人の選任及び報酬の同意・内部監査計画書の報告・金融商品取引法監査結果の報告・会社法監査結果の報告・月次予算実績の報告・内部統制システムの整備運用評価の報告・内部統制システムの基本計画に関する報告・内部統制整備、運用状況の評価結果の報告・監査及び期中レビュー計画概要説明書の説明・第２四半期決算及び中間配当金等の件・海外子会社の近況報告・取締役からの事業報告と今後の見通しの説明・定時株主総会付議議案の確認・監査法人より提供可能性のある非監査業務に対する包括承認の確認 常勤監査役の辻村茂氏の活動としては、本社に常駐し、日常業務の監査及び取締役会に出席するほか、経営会議等その他重要会議への出席や重要な決裁書類等の閲覧等により、取締役による意思決定に至るプロセスや決定内容の適法性、適正性、妥当性及び合理性について監査いたしました。② 内部監査の状況社長室の専任者１名が年間計画に基づき内部監査を実施しております。監査範囲は業務の全般を対象としており、海外拠点を含む各部署に対して、それぞれ期初に監査計画書にて監査実施項目を定め、１年間を通じて業務監査を実施しております。加えて、輸出監査（対象部門：海外事業統括部海外業務課及び社長室）、環境監査（対象部門：総務部及び設計部）、システム監査（対象部門：総務部）を実施しております。監査方法としては、インタビュー、文書レビュー及びサンプル検証等を行っております。内部監査の実効性を確保するため、監査責任者は監査計画書に基づいて実施された監査の結果について定期的に取締役会に報告しており、定期的な報告は少なくとも年に１回は行われております。業務活動の全般に関し、その妥当性や有効性及び法規制・社内ルールの遵守状況等について定期的に監査を実施し、各部署に助言・勧告を行うとともに経営者に速やかに報告しております。また、内部監査の有効性の把握・評価について監査役、会計監査人と適宜、質疑応答、意見交換を行い相互連携を図っております。 ③ 会計監査の状況イ. 監査法人の名称有限責任 あずさ監査法人 ロ. 継続監査期間27年間 ハ. 業務を執行した公認会計士の氏名指定有限責任社員 業務執行社員 桃原 一也指定有限責任社員 業務執行社員 山中 智弘 ニ. 監査業務に係る補助者の構成監査業務に係る補助者は、公認会計士７名、その他５名であります。 ホ. 監査法人の選定方針と理由監査役会は、会計監査人選定において日本監査役協会が公表する「会計監査人の評価及び選定基準策定に関する監査役等の実務指針」に記載されている、会計監査人の選定基準項目を考慮し選定しております。有限責任 あずさ監査法人を会計監査人に選定した理由は、同監査法人の専門性、独立性、品質管理体制並びに監査報酬額を総合的に勘案した結果、適任と判断したことによるものであります。監査役会は、会計監査人の職務の執行に支障がある場合等、その必要があると判断した場合は、株主総会に提出する会計監査人の解任又は不再任に関する議案の内容を決定いたします。また、監査役会は、会計監査人が会社法第340条第１項各号に定める項目に該当すると認められる場合は、監査役全員の同意に基づき、会計監査人を解任いたします。この場合、監査役会が選定した監査役は、解任後最初に招集される株主総会において、会計監査人を解任した旨と解任の理由を報告いたします。 へ. 監査役及び監査役会による監査法人の評価会計監査人の選任基準に基づいた評価では、会計監査人は職業的懐疑心をもって不正リスクを適切に評価し計画に則り監査を実行しているとの評価をしております。また、業務執行部門からの評価でも監査を十分に実行し、コミュニケーションも良好で内部統制の評価も適正であり、監査品質にも問題ないとの評価をしております。監査役との会合も必要に応じて実施し、緊密なコミュニケーションを行っており、問題ないとの評価をしております。 ④ 監査報酬の内容等イ. 監査公認会計士等に対する報酬の内容前事業年度当事業年度監査証明業務に基づく報酬（千円）非監査業務に基づく報酬（千円）監査証明業務に基づく報酬（千円）非監査業務に基づく報酬（千円）20,000－20,000－ ロ. 監査公認会計士等と同一のネットワークに対する報酬（イ.を除く）前事業年度及び当事業年度において、重要な報酬はありません。ハ. その他の重要な監査証明業務に基づく報酬の内容該当事項はありません。 ニ. 監査報酬の決定方針当社の監査公認会計士等に対する監査報酬の決定については、当社の規模・特性及び監査公認会計士等の監査日数を勘案し、監査公認会計士等との協議及び監査役会の同意を経た上で決定しております。 ホ. 監査役会が会計監査人の報酬等に同意した理由監査役会は、会計監査人の監査計画の内容、会計監査の職務遂行状況及び報酬見積りなどが当社の事業規模や事業内容に対して適切であるかどうかについて必要な検証を行った上で、会計監査人の報酬等の額について同意の判断を行っております。

（５）【株式の保有状況】① 投資株式の区分の基準及び考え方当社は、投資株式について、主に株式の価値の変動によって利益を得ることを目的として保有する株式を純投資目的である投資株式、それ以外の株式を純投資目的以外の目的である投資株式に区分しております。 ② 保有目的が純投資目的以外の目的である投資株式イ. 保有方針及び保有の合理性を検証する方法並びに個別銘柄の保有の適否に関する取締役会等における検証の内容当社は、事業活動に関して協働関係にある相手先に限定し、当該相手先の株式を保有することで、取引関係を強化し、もって当社の企業価値を向上させる株式を対象とすることを基本としております。上場株式の政策保有に際しては、2025年８月21日の取締役会において、その保有目的が適切か、保有に伴う便益やリスクが資本コストに見合っているかを検証し、保有の適否を判断しております。 ロ. 銘柄数及び貸借対照表計上額 銘柄数（銘柄）貸借対照表計上額の合計額（千円）非上場株式1463非上場株式以外の株式4260,100 （当事業年度において株式数が増加した銘柄） 銘柄数（銘柄）株式数の増加に係る取得価額の合計額（千円）株式数の増加の理由非上場株式－－－非上場株式以外の株式－－－ （当事業年度において株式数が減少した銘柄） 銘柄数（銘柄）株式数の減少に係る売却価額の合計額（千円）非上場株式－－非上場株式以外の株式－－ ハ. 特定投資株式の銘柄ごとの株式数、貸借対照表計上額等に関する情報特定投資株式銘柄当事業年度前事業年度保有目的、業務提携等の概要、定量的な保有効果及び株式数が増加した理由当社の株式の保有の有無株式数（株）株式数（株）貸借対照表計上額（千円）貸借対照表計上額（千円）（株）村田製作所69,30069,300営業取引等の業務を円滑に推進し、取引関係を維持するために、2007年12月から2024年１月まで村田製作所取引先持株会の会員として毎月一定額を拠出し、株式の買付を行ってまいりました。2024年３月29日付で村田製作所取引先持株会が解散されたため、単元未満株を売却し、解散時点の単元株以上の株式を保有しております。定量的な保有効果の記載は困難ですが、保有目的の適切性、リスクに対する資本コストの比較等により保有の合理性を取締役会において検証しております。無157,137232,224（株）アドテックプラズマテクノロジー60,00060,000主要仕入先であり、事業上の関係を勘案し、同社との良好な関係の維持、強化を図るため継続して保有しております。定量的な保有効果の記載は困難ですが、保有目的の適切性、リスクに対する資本コストの比較等により保有の合理性を取締役会において検証しております。無79,140117,000（株）三菱ＵＦＪフィナンシャル・グループ8,4708,470当社のメインバンクであり、安定的な取引関係の維持が、当社の中長期的な企業価値の向上に資すると判断し、保有しております。定量的な保有効果の記載は困難ですが、保有目的の適切性、リスクに対する資本コストの比較等により保有の合理性を取締役会において検証しております。無(注)17,87514,822（株）Ｔ＆Ｄホールディングス1,6001,600金融取引関係先として保有しております。定量的な保有効果の記載は困難ですが、保有目的の適切性、リスクに対する資本コストの比較等により保有の合理性を取締役会において検証しております。無5,9474,558（注）保有先企業は当社の株式を保有していませんが、同社子会社が当社の株式を保有しています。 ③ 保有目的が純投資目的である投資株式該当事項はありません。

２【沿革】年月事項1979年９月半導体製造装置の製造及び販売を目的として株式会社サムコインターナショナル研究所を設立1980年７月国産初のプラズマＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）装置の開発、販売を開始1984年７月東京都品川区に東京出張所（現東日本営業部）を開設1985年６月京都市伏見区竹田田中宮町33番地（現藁屋町36番地）に本社を移転1987年２月米国カリフォルニア州にオプトフィルムス研究所を開設1991年３月京都市伏見区に研究開発センターを開設1993年２月茨城県土浦市につくば出張所（現つくば営業所）を開設1993年９月愛知県愛知郡長久手町に東海営業所（現東海支店、2020年１月に名古屋市へ移転）を開設1995年７月薄膜技術を使った特定フロン無公害化技術の基本技術を開発1997年11月キリンビール株式会社と共同で、プラスチックボトルにＤＬＣ（ダイヤモンド・ライク・カーボン）膜を形成する技術を開発1999年７月サムコエンジニアリング株式会社より、サービス部門の営業を譲受け2001年５月日本証券業協会に株式を店頭上場公募増資により資本金を1,213,787千円に増資2001年７月台湾新竹市に台湾事務所を開設（2009年１月に閉鎖）2002年７月生産技術研究棟（京都市伏見区）の改修工事完了2003年12月(独)ロバート・ボッシュ社よりシリコンの高速ディープエッチング技術を導入2004年11月中国上海市に上海事務所を開設2004年12月株式会社サムコインターナショナル研究所からサムコ 株式会社へ社名を変更2004年12月株式売買単位を1,000株から100株に変更2004年12月日本証券業協会への店頭登録を取消し、ジャスダック証券取引所に株式を上場2005年９月英国ケンブリッジ大学との共同開発「強誘電体ナノチューブの量産技術」を英企業に技術供与2006年３月製品サービスセンターを新設2006年９月中国清華大学とナノ加工技術の共同研究で調印2008年３月京都市伏見区に第二研究開発棟を開設2008年10月台湾に保守サービスのための現地法人「莎姆克股份有限公司」を設立2009年１月「莎姆克股份有限公司」が営業を開始2010年４月ジャスダック証券取引所と大阪証券取引所の合併に伴い、大阪証券取引所ＪＡＳＤＡＱ市場（2013年７月より東京証券取引所ＪＡＳＤＡＱ（スタンダード））に上場2010年８月米国ノースカロライナ州に米国東部事務所を開設（2014年５月にニューヨーク州へ移転、2017年１月にニュージャージー州へ移転）2010年９月中国北京市に北京事務所を開設2013年７月東京証券取引所ＪＡＳＤＡＱ（スタンダード）から市場第二部へ市場変更2013年10月ＳｉＣパワーデバイス向け本格量産用ドライエッチング装置ＲＩＥ－６００ⅰＰＣの開発、販売を開始2013年11月ＭＥＭＳ向け本格量産用ドライエッチング装置ＲＩＥ－８００ⅰＰＢＣの開発、販売を開始2014年１月東京証券取引所市場第二部から同第一部銘柄に指定2014年５月リヒテンシュタイン公国UCP Processing Ltd.を子会社化（samco-ucp AGに社名変更）2015年９月公募増資により資本金を1,663,687千円に増資2015年12月電子デバイス向け原子層堆積装置ＡＬ－１の開発、販売を開始2016年６月第二生産技術棟（京都市伏見区）が完成2016年８月マレーシアにマレーシア事務所を開設2016年９月Aqua Plasmaを用いたプラズマ洗浄装置ＡＱ－２０００の開発、販売を開始2018年12月ドライエッチング装置ＲＩＥ－２００ｉＰＮの開発、販売を開始2020年７月第二生産技術棟内にＣＶＤ装置のデモルームを開設2021年１月新型コロナウイルス不活化技術を完成2021年12月電子デバイス製造向けクラスターツールシステム「クラスターＨTM」の販売を開始2022年３月第二研究開発棟内にナノ薄膜開発センターを立ち上げ（2024年９月に技術開発統括部プロセス開発２部に統合）2022年４月東京証券取引所の市場区分の見直しにより、東京証券取引所市場第一部からプライム市場へ移行2025年９月京都市伏見区に先端技術開発棟を開設